Основной контент книги Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа
Tekst PDF
Raamatu kestus 19 lehekülge
2007 aasta
Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа
€1,46
Raamatust
В методических указаниях рассматриваются принципы расчета режимов ионной имплантации при формировании структур n+–p–p+(p+–n–n+)-типа и профилей распределения имплантированной примеси. Излагается методика расчета в программе Math Cad 2001.
Žanrid ja sildid
Logi sisse, et hinnata raamatut ja jätta arvustus
Raamat Владимира Астахова, Андрея Полисана «Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа» — loe veebis. Jäta kommentaare ja arvustusi, hääleta lemmikute poolt.
Vanusepiirang:
0+Ilmumiskuupäev Litres'is:
28 märts 2018Kirjutamise kuupäev:
2007Objętość:
19 lk Üldsuurus:
298 КБLehekülgede koguarv:
19Õiguste omanik:
МИСиС
