Читайте только на Литрес

Raamatut ei saa failina alla laadida, kuid seda saab lugeda meie rakenduses või veebis.

Основной контент книги Atomic Layer Deposition
Tekst PDF

Maht 274 lehekülge

0+

Atomic Layer Deposition

Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
Читайте только на Литрес

Raamatut ei saa failina alla laadida, kuid seda saab lugeda meie rakenduses või veebis.

€220,80

Raamatust

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

Žanrid ja sildid

Logi sisse, et hinnata raamatut ja jätta arvustus
Raamat David Cameron, Arthur Sherman «Atomic Layer Deposition» — loe veebis. Jäta kommentaare ja arvustusi, hääleta lemmikute poolt.
Vanusepiirang:
0+
Ilmumiskuupäev Litres'is:
02 oktoober 2018
Objętość:
274 lk
ISBN:
9781118747421
Üldsuurus:
3.3 МБ
Lehekülgede koguarv:
274
Kustija:
Õiguste omanik:
John Wiley & Sons Limited
18+
Tekst
Средний рейтинг 4,8 на основе 83 оценок
Mustand, helivorming on saadaval
Средний рейтинг 4,7 на основе 29 оценок
Mustand
Средний рейтинг 4,5 на основе 15 оценок
Audio
Средний рейтинг 4,2 на основе 1013 оценок
Mustand
Средний рейтинг 4,4 на основе 46 оценок
Tekst, helivorming on saadaval
Средний рейтинг 4,7 на основе 6 оценок
Mustand
Средний рейтинг 4,7 на основе 75 оценок
Tekst, helivorming on saadaval
Средний рейтинг 4,7 на основе 986 оценок
Audio
Средний рейтинг 4,6 на основе 1058 оценок
Mustand
Средний рейтинг 4,8 на основе 45 оценок
Tekst PDF
Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок