Raamatud, mis sarnanevad «Chemical Process Design and Simulation: Aspen Plus and Aspen Hysys Applications», Juma Haydary
Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок0 Средний рейтинг 5 на основе 1 оценок51 Средний рейтинг 5 на основе 3 оценок53 Средний рейтинг 5 на основе 1 оценок51 Средний рейтинг 3,9 на основе 10 оценок3,910 Средний рейтинг 4,7 на основе 942 оценок4,7942 Средний рейтинг 4,8 на основе 1339 оценок4,81339 Средний рейтинг 4,4 на основе 10 оценок4,410 Средний рейтинг 4,8 на основе 937 оценок4,8937 Средний рейтинг 4,8 на основе 1037 оценок4,81037 Средний рейтинг 4,8 на основе 444 оценок4,8444 Средний рейтинг 4,5 на основе 2 оценок4,52 Средний рейтинг 4,8 на основе 1040 оценок4,81040 Средний рейтинг 4,8 на основе 497 оценок4,8497 Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок0 Средний рейтинг 4,9 на основе 920 оценок4,9920 Средний рейтинг 4,9 на основе 767 оценок4,9767 Средний рейтинг 4,9 на основе 671 оценок4,9671 Средний рейтинг 4,9 на основе 826 оценок4,9826 Средний рейтинг 4,7 на основе 258 оценок4,7258 Средний рейтинг 4,2 на основе 101 оценок4,2101 Средний рейтинг 4,8 на основе 878 оценок4,8878 Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок0 Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок0 
