Raamatud, mis sarnanevad «Chemical Process Design and Simulation: Aspen Plus and Aspen Hysys Applications», Juma Haydary
Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок0 Средний рейтинг 5 на основе 1 оценок51 Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок0 Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок0 Средний рейтинг 4,7 на основе 314 оценок4,7314 Средний рейтинг 4,7 на основе 191 оценок4,7191 Средний рейтинг 5 на основе 1 оценок51 Средний рейтинг 4,7 на основе 461 оценок4,7461 Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок0 Средний рейтинг 4,6 на основе 155 оценок4,6155 Средний рейтинг 4,6 на основе 261 оценок4,6261 Средний рейтинг 4,7 на основе 2672 оценок4,72672 Средний рейтинг 5 на основе 2 оценок52 Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок0 Средний рейтинг 4 на основе 20 оценок420 Средний рейтинг 4,2 на основе 102 оценок4,2102 Средний рейтинг 5 на основе 3 оценок53 Средний рейтинг 3,7 на основе 3 оценок3,73 Средний рейтинг 4,8 на основе 1363 оценок4,81363 Средний рейтинг 3 на основе 2 оценок32 Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок0 Средний рейтинг 4,5 на основе 130 оценок4,5130 Средний рейтинг 4,7 на основе 85 оценок4,785 Средний рейтинг 4,4 на основе 488 оценок4,4488 
