Raamatud, mis sarnanevad «Chemical Process Design and Simulation: Aspen Plus and Aspen Hysys Applications», Juma Haydary
Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок0 Средний рейтинг 5 на основе 1 оценок51 Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок0 Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок0 Средний рейтинг 4,3 на основе 3 оценок4,33 Средний рейтинг 4,4 на основе 481 оценок4,4481 Средний рейтинг 5 на основе 1 оценок51 Средний рейтинг 4,9 на основе 924 оценок4,9924 Средний рейтинг 4,9 на основе 768 оценок4,9768 Средний рейтинг 3,3 на основе 4 оценок3,34 Средний рейтинг 5 на основе 3 оценок53 Средний рейтинг 4,9 на основе 672 оценок4,9672 Средний рейтинг 4,8 на основе 880 оценок4,8880 Средний рейтинг 4,8 на основе 1344 оценок4,81344 Средний рейтинг 4,8 на основе 1039 оценок4,81039 Средний рейтинг 4,9 на основе 834 оценок4,9834 Средний рейтинг 4,4 на основе 1266 оценок4,41266 Средний рейтинг 4,7 на основе 946 оценок4,7946 Средний рейтинг 4,7 на основе 1340 оценок4,71340 Средний рейтинг 4,7 на основе 458 оценок4,7458 Средний рейтинг 4,3 на основе 63 оценок4,363 Средний рейтинг 4,6 на основе 209 оценок4,6209 Средний рейтинг 4,6 на основе 256 оценок4,6256 Средний рейтинг 4,6 на основе 1539 оценок4,61539 
