tekstPDFMaht 357 lehekülgi
Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment
179,34 €
Raamatust
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
Žanrid ja sildid
Jätke arvustus
Logi sisse, et hinnata raamatut ja jätta arvustus
Raamat Annie Baudrant «Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment» — loe veebis. Jäta kommentaare ja arvustusi, hääleta lemmikute poolt.
Vanusepiirang:
0+Ilmumiskuupäev Litres'is:
10 aprill 2018Objętość:
357 lk ISBN:
9781118601112Üldsuurus:
14 МБLehekülgede koguarv:
357Õiguste omanik:
John Wiley & Sons Limited
